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氧含量检测
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晶片在生产过程中,原本大气中O2会和Si产生化学反应得O2+Si=SiO2(二氧化矽)为原始的氧化层,如果管路的氧含量过高,原始的氧化层会超出原本已计算好的厚度,如此会严重影响接下来各阶段的制程。

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